自動(dòng)涂膜烘干機(jī)/小型延涂布烘干機(jī) 型號:HAD-250

產(chǎn)品簡介：本產(chǎn)品廣泛用于各種溫涂膜研究，例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、殊納米薄膜；能夠適應(yīng)未來溫條件下成膜的的發(fā)展

自動(dòng)涂膜烘干機(jī)標(biāo)準(zhǔn)配置：配微米可調(diào)涂膜器寬度100mm

主要點(diǎn)：*數(shù)字顯示溫度控制的烘干系統(tǒng)，作溫度200℃；

*數(shù)字顯示計(jì)時(shí)器，可自由設(shè)定烘干時(shí)間；

*涂膜速度在0～100mm/秒范圍內(nèi)可調(diào)；
*真空鋁盤，可快速放置或取下基片；
*在10～250mm之間可通過行程開關(guān)調(diào)整行程；
*帶調(diào)整涂膜厚度（度0.01mm）的刮刀；

*外形尺寸小，可節(jié)約空間；

*外觀致，鈑金采用立體幾何，簡潔美觀

參數(shù)

*涂膜速度：0～100mm/秒；
*大行程：250mm；
*真空板：帶真空鋁平板 ；
*真空板尺寸：L365mm×W200mm×H30mm；
*刮刀可調(diào)范圍：0.01～3.5mm；
*加熱烘干系統(tǒng)：室溫～200℃,數(shù)顯溫度控制器,度±1℃
*電源：220V/50Hz；

*重量：50KG；

*外形尺寸：L500mm×W310mm×H330mm

操作規(guī)程

（1）.將片放在真空板上，啟動(dòng)電源，開啟真空，片吸附在真空板上；

（2）.將涂膜器放在片上，放入涂料漿；

（3）.開啟涂膜，涂膜裝置自動(dòng)推動(dòng)涂膜器行走，自動(dòng)涂膜；

（4）.取出涂膜器和推桿，蓋上發(fā)熱蓋，設(shè)定加熱溫度和時(shí)間，行加熱烘干；

（5）.烘干成后，翻開發(fā)熱蓋，取出涂膜好的片，將涂膜裝置復(fù)位成；

2.數(shù)顯顆粒強(qiáng)度測定儀/自動(dòng)數(shù)顯顆粒強(qiáng)度測定儀? 型號：HAD-KC-3

數(shù)顯顆粒強(qiáng)度儀采用優(yōu)良的測量控制技術(shù)，可自動(dòng)完成加力、測量顯示、最大強(qiáng)度值的鎖

定及復(fù)位等操作，是一種自動(dòng)化程度較高、測量范圍較寬的新型儀器，該儀器具有體積小、測量值直

讀、精度高、使用方便等優(yōu)點(diǎn)，是顆粒強(qiáng)度測定更為理想的新型儀器。

主要技術(shù)指標(biāo)：

1．電源電壓：AC220V±10%? 40W

2．環(huán)境溫度：0℃—40℃

3．相對濕度：≤85%

4．顆粒直徑：≤30mm

5．測量范圍： 20—1000N

6．分辨率：0.1N

7．測量精度：≤0.5%FS

8．外型尺寸：225mm×325mm×330mm

3.壁掛式電源 型號：H19299

4.氧化鋯氧量分析儀(盤式)    型號；SYS-ZO-802

儀器特點(diǎn)：

·  選用優(yōu)質(zhì)氧化鋯檢測元件，具有壽命長，反應(yīng)快等特點(diǎn)。

·  采用大屏幕點(diǎn)陣液晶顯示，可同時(shí)顯示氧量、溫度、日期、時(shí)間等參數(shù)。

·  采用全中文人機(jī)對話菜單，操作直觀方便。

·  采用對流擴(kuò)散式結(jié)構(gòu)，減少了流量對測量微量氧的影響。

·  儀器具有從微量到常量共八檔量程，量程自動(dòng)轉(zhuǎn)換。

·  上下限報(bào)警點(diǎn)能在全量程范圍內(nèi)任意設(shè)置。

·  具有無紙記錄儀功能，自動(dòng)記錄氧濃度隨時(shí)間的變化曲線。

·  具有測量數(shù)據(jù)自動(dòng)存貯功能，存貯的間隔時(shí)間由用戶設(shè)定。

·  具有0～10mA或4～20mA電流信號輸出。

·  儀器具有一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的RS232C通訊口，可以連接串口打印機(jī)或與計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)雙向通訊。

5.碳硫分析儀    型號；H19288

主要性能特點(diǎn)：
※非水定碳，酸堿滴定法定硫
※手工滴定，換算結(jié)果
※測試范圍寬，故障率低，維修方便，價(jià)格低廉；
※測量精度：符合GB223.68-1997標(biāo)準(zhǔn)
                   符合GB223.69-1997標(biāo)準(zhǔn)

以上參數(shù)資料與圖片相對應(yīng)